Plazmatické povlakování

Hybridní vodou stabilizovaný plazmový nástřik

Hybridní vodou stabilizovaný plazmový nástřik (WSP-H z anglického Hybrid Water Stabilized Plasma spraying) je nová hybridní technologie využívající plazmového hořáku, který kombinuje výhody klasického DC plynem stabilizovaného obloukového hořáku s unikátně navrženým vodním kanálem. Více >>

Dostupné v rámci NCK MATCA:

Dutá katoda

Depoziční systém duté katody je založen na odprašování duté katody v reaktivní atmosféře pracovního plynu. Dutá katoda poskytuje vysoký stupeň ionizace a z tohoto důvodu dochází nejen k intenzivnímu odprašování katody, ale také k ionizaci reaktivního plynu a následnému zlepšení vlastností deponované vrstvy díky zvýšenému bombardu substrátu. Více >>

Dostupné v rámci NCK MATCA:

Pulsní laserová depozice

Pulsní laserová depozice (PLD) je metoda pro vytváření anorganických a v omezené míře a při menších modifikacích také organických tenkých vrstev z materiálů se složitým prvkovým složením. Ve své základní podobě byla poprvé tato metoda publikována v roce 1965. Více >>

Dostupné v rámci NCK MATCA:

Magnetronové naprašování

Magnetronové naprašování (MS z anglického magnetron sputtering) je depoziční metoda využívající terče z vodivého materiálu, který je umístěn do vakuové komory a je na něj přivedeno vysoké záporné napětí. Do komory je přiveden pracovní plyn (většinou inertní – např. argon) a tlak v komoře se udržuje od desítek do jednotek pascalů. Více >>

Dostupné v rámci NCK MATCA:

Plazmatické zplyňování

Plazmatické zplyňování

DODĚLAT

Dostupné v rámci NCK MATCA:

Plazma v medicíně

Nízkoteplotní plazma

Nízkoteplotní plazma (NTP) je částečně ionizovaný plyn, který se skládá z chemicky aktivních částic, reaktivních forem kyslíku a dusíku, UV fotonů, elektronů a iontů. Fyzikální plazma vzniká odtržením elektronů z elektronového obalu atomu plynu působením energie, např. elektrickým výbojem, kdy dochází ke tvorbě excitovaných a ionizovaných částic za zachování celkové elektroneutrality plynu. Více…

Dostupné v rámci NCK MATCA:
Reaktor PlasGas

Plazmatické úpravy povrchu

Plazmatická aktivace povrchu

Povrch materiálů hraje klíčovou roli pro mnoho aplikací a úprava jeho povrchových vlastností obvykle začíná aktivačním procesem. Při tomto kroku se vytváří reaktivní skupiny na povrchu materiálu, tyto skupiny slouží jako upevnění pro specifické skupiny vytvářené při následujícím kroku. Více…

  • Plazmatické povlakování (asi znovupoužitelné bloky z Technologie / Povlaky – TJ)
    • DK
    • PLD
    • magnetron
    • naprašování
  • Plazmatické úpravy povrchu
    • Čištění a aktivace (YC napíše do CEPLANTu)
    • LSP (MK napíše na HiLASE)
  • Plazmatické zplyňování (YC napíše panu Matesovi)
  • Nízkoteplotní plazma (MK napíše Míše Drahošové)
    • Plazma v medicíně

Tento web používá k poskytování služeb, personalizaci reklam a analýze návštěvnosti soubory cookie. Používáním tohoto webu s tím souhlasíte. Více informací

Souhlasím